Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
+
  • Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
  • Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями

 

 

 

1 Описание продукта

Приготовление твёрдых плёнок, коррозионно-стойких и трения устойчивых плёнок, сверхпроводящих, магнитных, оптических, декоративных плёнок, а также различных плёнок для модификации поверхности материалов с особыми функциональными свойствами с помощью технологии магнетронного распыления с высоким вакуумом и многозарядными мишенями;

 

2 , Особенности и преимущества оборудования

Повышение степени ионизации за счёт ионного источника анодного слоя позволяет достичь высокоэффективного и высококачественного тонкоплёночного осаждения с поддержкой;

Через импульсное барьерное реактивное распыление / Конструктивная очистка поверхности заготовки и осаждение с помощью полястимулированного напряжения.

Оснащённый сприттер-мишенью 4 Комплект, ионный источник анодного слоя 1 Набор


Предыдущая страница

Следующая страница

Краткая информация о компании

Шэньянская компания новых материалов «Ци Вэй» Это высокотехнологичное предприятие, созданное совместно командой специалистов и менеджеров, обладающих более чем десятилетним опытом в области разработки, проектирования, производства и изготовления прецизионного оборудования и вакуумных установок. Компания была основана в 2019 году и специализируется на научно-исследовательских и производственных работах по созданию специализированного прецизионного оборудования для подготовки материалов в лабораториях, а также крупномасштабного вакуумного термического оборудования. Семивидная технология будет предоставлять университетским лабораториям, научно-исследовательским институтам и промышленным предприятиям комплексные решения — от разработки новых материалов до строительства производственных линий — благодаря передовым концепциям дизайна, высокому мастерству изготовления и мощному научно-исследовательскому потенциалу.

Наши услуги

Производитель-источник

Поддержка кастомизации

Бесплатный дизайн

Возможна выписка счета-фактуры

Отправка вовремя

Улучшенный сервис

Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
+
  • Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
  • Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями

Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями


1. Описание продукции При помощи технологии магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими магнитными мишенями готовятся твёрдые плёнки, коррозионно-стойкие трениястойкие плёнки, сверхпроводящие плёнки, магнитные плёнки, оптические плёнки, декоративные плёнки, а также различные модифицированные поверхности материалов с особыми функциональными свойствами; 2. Особенности и преимущества оборудования Использование ионного источника анодного слоя повышает степень ионизации, что обеспечивает высокоэффективное и качественное нанесение плёнок; Применение импульсного биас-распыления/этчинга позволяет очищать поверхность заготовки, а также способствует осаждению под воздействием биас-электрического поля. Оборудование оснащено 4 комплектами магнетронных мишеней и 1 ионным источником анодного слоя.

Поделиться в:


Принадлежность к категории:

SEO-метки:


Получить предложение

Свяжитесь с нами прямо сейчас, чтобы получить бесплатную экспертную консультацию!

%{tishi_zhanwei}%