Главная
Продукция
Оборудование для производства порошков методом вакуумной атомизации
Вакуумное диффузионное сварочное оборудование
Вакуумная установка для плавки титанового сплава
Вакуумно-термическая обработка и паяльное оборудование
Вакуумно-индукционное оборудование для плавки и литья
Вакуумно-термопрессовое оборудование для спекания под давлением
Лабораторное оборудование
Новости
Корпоративные новости
Новости отрасли
Дела
Примеры из практики
Партнёры
Карьера
Концепция управления персоналом
Вакансии
О нас
Краткая информация о компании
Патентное свидетельство
Почётные квалификации
Производственно-технический потенциал
Сферы применения
Контакты
Поиск продуктов
Быстро найдите нужный вам продукт.
Категоризация продуктов
Вакуумная электродуговая печь
Вакуумная печь для отжига
Вакуумная прецизионная печь для литья
Комплект вакуумных термических печей
Вакуумный вентилятор
Продуктовая витрина
Learn More
Оборудование для магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими мишенями
1. Описание продукции При помощи технологии магнетронного распыления с высоким вакуумом и несколькими магнитными мишенями готовятся твёрдые плёнки, коррозионно-стойкие трениястойкие плёнки, сверхпроводящие плёнки, магнитные плёнки, оптические плёнки, декоративные плёнки, а также различные модифицированные поверхности материалов с особыми функциональными свойствами; 2. Особенности и преимущества оборудования Использование ионного источника анодного слоя повышает степень ионизации, что обеспечивает высокоэффективное и качественное нанесение плёнок; Применение импульсного биас-распыления/этчинга позволяет очищать поверхность заготовки, а также способствует осаждению под воздействием биас-электрического поля. Оборудование оснащено 4 комплектами магнетронных мишеней и 1 ионным источником анодного слоя.